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フォトマスクリサイクル事業

PHOTO MASK RECYCLING

MRS(マスクリサイクルサービス)

不要となったフォトマスクをブランクマスク・光学用素材として再利用

MRS(Mask Recycle Service)は半導体のリソグラフィー工程で使用されたマスクを、弊社にて独自開発した装置にて処理を行い、ブランクマスクまたは、光学用素材としてリサイクルします。
自動膜除去装置導入よる高い処理能力と、大手半導体メーカーとの長期取引により培われたノウハウにより、知的財産の保護と、知的財産付随素材の高付加価値化を実現しています。

半導体工場で秘密保持の観点からは再処理となっているフォトマスクを情報セキュリティが保証された環境でリサイクル

リサイクル実績

SizeShapeDimension(mm)Weight(g)Thickness(mm)
5009Square127×1271002.30
6009Square152×1521202.30
6012Square152×1521503.00
6025Square152×1523506.35
7012Square178×1782002.30
7015Square178×1782503.80

セキュリティ対策(マスクID管理)

お客様から回収したマスクのID管理サービスを提供いたします。

1.回収したマスクのIDすべてを記録。
2.記録を客先へ提出し回収したマスクがすべて売却対象なのかを確認。
3.客先からの承認後、工場でのリサイクル処理を実施。

MRS作業プロセス(YTC)

FLOW1> 受入(IP付フォトマスク)

FLOW2> プロセスキャリアへ移替え

FLOW3> 膜除去処理

FLOW4> 処理後のフォトマスク

FLOW5> 検査&梱包

フォトマスク処理におけるセキュリティー対策

1. 顧客から回収したマスクはすべてIDを記録
2. 処理工場での膜除去作業は全てビデオ記録
3. フォトマスク保管庫は厳重に施錠
4. 処理工場への入退場はIDカード管理

シリコンウェハー事業

SILLICON WAFER

300mmパーティクル保証ウェハー

グレードダミー・モニターグレードウェハー
<Dummy Grade Wafer>
再生ウェハー
<Reclaim Wafer>
後工程用ウェハー
<Down Graded Dummy Wafer>
厚さ775±25um客先仕様に準じる650um以上
導電型P型P型P型
抵抗値>0.5ohm>0.5ohm>0.5ohm
パーティクル37nmからの保証可能80nmからの保証可能<1000個@0.2um
メタルコンタミネーション5E10 atoms / cm25E10 atoms / cm25E10 atoms / cm2

200mmパーティクル保証ウェハー

グレードダミー・モニターグレードウェハー
<Dummy Grade Wafer>
再生ウェハー
<Reclaim Wafer>
後工程用ウェハー
<Down Graded Dummy Wafer>
厚さ775±25um客先仕様に準じる600um以上
導電型P型P型P型
抵抗値>0.5ohm>0.5ohm>0.5ohm
パーティクル<100個@0.16um<100個@0.16um<1000個@0.2um
メタルコンタミネーション5E10 atoms / cm25E10 atoms / cm25E10 atoms / cm2

後工程用ウェハー(クリーン度保証なし)

グレード300mm後工程用ダミー200mm後工程用ダミー
面方位<100><100>
仕上MP / MPMP / ET
厚さ650um以上600um以上
表面蛍光灯下目視検査でキズがなきこと蛍光灯下目視検査でキズがなきこと
ノッチVノッチVノッチ及びオリフラも可

その他サービス

熱酸化膜成膜
200mm~300mm熱酸化膜付ウェハーを提供しています。成膜後でもパーティクル及びメタルコンタミネーションの保証が可能です。

スクラップシリコンリサイクル事業

SCRAP SILICON RECYCLING

スクラップシリコンリサイクルフロー

シルファインは、半導体工場から不要となったシリコンウェハーを回収し、ウェハー品質に応じた適切かつ無駄のないリサイクルソリューションを提案しています。

パターン品・ワレウェハー

シルファインでは、お客様の企業ノウハウの付随したパターンウェハーを機械的に除去し安全にリサイクルすることも可能です。

BEFORE
BEFORE
AFTER
AFTER

自動パターンウェハー除去装置
(アメリカ・台湾工場に設置)

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